光胶效应是什么

光胶效应，也称为光敏效应，是指在光敏材料（如光刻胶）受到光线照射后发生的物理或化学变化，这种变化使得材料能够被加工和处理。光胶效应在光刻技术、半导体制造、图像显示等地方中非常重要，用于制作微细结构和图案。

在光刻过程中，光胶被涂覆在硅片或其他基材上，然后通过曝光和显影步骤，使得光胶在特定区域发生化学反应，形成所需的图案。经过显影后的光胶，其性质发生改变，可以被用于后续的蚀刻或薄膜沉积等制造步骤，最终制造出集成电路或其他微型器件。

需要注意的是，光胶效应与物体表面的摩擦力现象是不同的。物体表面越光滑，摩擦力通常会越小，但当表面过于光滑时，分子间距离减小，相互之间的吸引力增大，导致摩擦力反而增大。这种现象在某些情况下，如手表贴膜，可能会导致贴膜与玻璃之间的粘着力异常增强，使得贴膜难以去除

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